[14a-A305-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[14a-A305-4] Development of minimal fab ion milling tool and the process characterization

〇kazushige sato^1,4, Shunji Takahashi³, Shoji Den³, Sommawan Khumpuang^1,2, Hara Shiro^1,2 (1.MINIMAL, 2.AIST, 3.KATAGIRI ENGINEERING, 4.Sakaguchi E.H VOC Corp.)

Keywords:Minimal Fab, Ion Milling

ミニマルイオンミリング装置を開発し、金属より削れ難い熱酸化膜において60sec加工し、ウェハ半径5mmまで削れ量18nm、ばらつき6％以下とプロトタイプ装置としては良好な加特性を確認した。