The 67th JSAP Spring Meeting 2020

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Oral presentation

Joint Session M "Phonon Engineering" » 22.1 Joint Session M "Phonon Engineering"

[14a-A405-1~7] 22.1 Joint Session M "Phonon Engineering"

Sat. Mar 14, 2020 9:45 AM - 11:45 AM A405 (6-405)

Takanobu Watanabe(Waseda Univ.), Toshio Baba(JST)

11:00 AM - 11:15 AM

[14a-A405-5] Thermophysical Properties of Amorphous Oxide Thin Films; (2) Thermal Conductivity of Amorphous (AlxGa1-x)2O3 Thin Films

Chinami Abe1, Yuichiro Yamashita1,2, Yukimi Tanaka2, Takashi Yagi1,2, Makoto Kashiwagi1, Junjun Jia3, Koichiro Hattori2, Naoyuki Taketoshi1,2, Toshihiro Okajima4, Yuki Oguchi5, Yuzo Shigesato1 (1.Aoyama Gakuin Univ., 2.AIST, 3.Waseda Univ., 4.Aichi SR, 5.AGU-CIA)

Keywords:Thermophysical properties

アモルファスAl2O3薄膜の熱伝導率は原子数密度に依存するが、複合酸化物膜では組成や局所構造などの影響も受けると考えられる。そこで(AlxGa1-x)2O3薄膜において、より広範囲な熱伝導制御を目指し、組成に対する熱伝導率変化を調べた。結果、熱伝導率はAl濃度80 at.%以下ではほぼ一定、80 at.%以上では他に比べ低い値となった。さらに、フォノンの平均自由行程とGa-O結合距離が異なることから、従来知見とは異なる可能性が示唆された。