[14a-B508-1~11] 7.1 X-ray technologies

[14a-B508-6] Optical Design of Enhancing Magnification Mo/Si Multilayer Mirror

〇Syunsuke Aizawa^1,2, Mitsunori Toyoda^1,2 (1.Tohoku Univ., 2.Tokyo Polytechnic Univ.)

Keywords:EUV microscopy

我々は、波長13.5nmの極紫外線(EUV)を用いた透過型EUV顕微鏡の開発をしている。この顕微鏡は、拡大光学系でSchwarzschildミラー(凹・凸2枚)と付加拡大ミラー(凹1枚)による2段拡大を採用することにより、空間分解能30nmが期待できる。本講演では、付加拡大ミラーの光学設計について報告する。