2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 低温(常温)接合界面及び薄膜成長界面ナノ・キベルネテス(舵手)

[14p-A201-1~8] 低温(常温)接合界面及び薄膜成長界面ナノ・キベルネテス(舵手)

2020年3月14日(土) 13:45 〜 17:20 A201 (6-201)

土屋 哲男(産総研)、喜多 隆(神戸大)

13:45 〜 14:15

[14p-A201-1] 表面活性化接合法による常温接合において酸化皮膜は善か悪か

小川 和洋1、照井 雄大1、渡邊 航平1、市川 裕士1 (1.東北大工)

キーワード:表面活性化接合、常温接合、酸化皮膜

常温接合法の一つである表面活性化接合法(SAB)は,金属表面の酸化皮膜を除去し,活性面を露出させることで温度上昇無しで接合する手法である.これまでSAB法により,鋼とアルミの接合させたところ,良好な接合が得られなかった.これは,活性なアルミが再酸化したためと考えられた.本研究においては,SABによる常温接合に対し,金属表面の酸化皮膜を除去すべきか,残存させるべきかに関し,検討を行った.