ミスト供給法を用いたAlInN層の熱酸化

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

2020年3月14日(土) 13:45 〜 18:45 A302 (6-302)

斉藤真(東北大)、村上尚(農工大)、新田州吾(名大)

17:45 〜 18:00

〇(B)松本浩輝¹、岩山章¹、小出典克¹、小田原麻人¹、竹内哲也¹、上山智¹、岩谷素顕¹、丸山隆浩¹、赤﨑勇^1,2 (1.名城大理工、2.名古屋大赤﨑記念センター)

キーワード：半導体、AlInN、酸化