[14p-A303-1~14] 【CS.4】 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェア

△ [14p-A303-2] 溶液塗布熱分解法の繰返しによる強誘電相Hf_0.5Zr_0.5O₂積層膜の特性

〇(M1)大田 宗司¹、井上 泰一¹、広藤 裕一¹、小池 一歩¹、矢野 満明¹ (1.大阪工大ナノ材研)

キーワード：酸化物半導体、溶液塗布熱分解方法、酸化ハフニウムジルコニウム

我々は，マイクロアクチュエータや圧電センサに向けて，低コスト成膜法で有名な溶液塗布熱分解法（ゾル・ゲル法）を繰り返してHZO積層膜を作製した．乾燥（大気雰囲気）までの繰り返し成膜では非強誘電相monoclinic構造が支配的となったが，焼成（窒素雰囲気）までの繰り返し成膜では膜厚の増加に関係なく，強誘電相orthorhombic構造を維持している結果が得られたことを報告する．