[14p-A305-1~14] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

△ [14p-A305-7] 固相成長Ge薄膜の熱処理過程制御による移動度向上機構の解明

〇今城 利文^1,2、末益 崇¹、都甲 薫¹ (1.筑波大院 数理物質、2.学振特別研究員)

キーワード：Ge、固相成長、薄膜