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[14p-A404-1] [第4回薄膜・表面物理分科会論文賞受賞記念講演] ロックイン赤外線発熱解析法による大面積グラフェンの構造イメージング
キーワード:グラフェン、欠陥評価、ロックインサーモグラフィ
グラフェンは様々な応用が期待され、CVD法による大面積合成が進められている。しかしCVD膜では、様々な欠陥構造が形成され、膜の電気伝導特性が大きく低減する。これまで探針プローブでの欠陥評価が検討されているが、狭い計測範囲に限られ、大面積膜での評価が課題であった。本研究は、ロックイン赤外線発熱解析法に基づく計測法によって、大面積CVDグラフェンの欠陥構造を高速・高精度にイメージング評価することに初めて成功した。