2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.11 フォトニック構造・現象

[14p-B415-1~15] 3.11 フォトニック構造・現象

2020年3月14日(土) 13:30 〜 17:50 B415 (2-415)

石崎 賢司(京大)、岩本 敏(東大)、新家 昭彦(NTT)

17:20 〜 17:35

[14p-B415-14] フォトニック結晶レーザにおけるM2に与える反射DBR層の周期数の影響

國師 渡1,2、宮井 英次1,2、De Zoysa Menaka1、石﨑 賢司1、吉田 昌宏1、井上 卓也1、初田 蘭子1、野田 進1 (1.京大院工、2.ローム)

キーワード:フォトニック結晶、半導体レーザ、面発光

フォトニック結晶レーザにおいて、素子裏面のDBR反射層の周期数を14周期から18周期とわずかに増やすだけでビーム品質が向上し,M2 ~1.2というほぼ理想的な値が実現できることが実験的に判明した。これは14周期ではDBRを透過した光が下部の電極にて不均一にフィードバックされ,発振モードに影響を与えていたものが、周期数を増やすことで、その影響が低減され、ビーム品質の改善につながったものと考えている。