[14p-D215-1~7] 【CS.5】 7.4 量子ビーム界面構造計測、9.5 新機能材料・新物性のコードシェアセッション

[14p-D215-1] X線光電子分光における時空間計測・解析手法の開発 III

〇豊田 智史¹、山本 知樹²、吉村 真史³、住田 弘祐⁴、三根生 晋⁴、町田 雅武⁵、吉越 章隆⁶、吉川 彰¹、鈴木 哲²、横山 和司² (1.東北大学、2.兵庫県大、3.SP8サービス、4.マツダ、5.シエンタオミクロン、6.原子力機構)

キーワード：X線光電子分光、半導体、埋もれた界面

近大気圧下硬X線角度分解光電子分光(NAP-HARPES)により、半導体デバイス(MOSFET等)に用いられる多層積層薄膜に埋もれた界面を時間と空間に分解して可視化する計測・解析技術を開発した。時空間解析技術については、汎用X線光電子分光(XPS)装置かつあらゆる元素・化学結合状態、解析プラットフォーム(Windows/Macintosh,Android/iOS)に依存しないGUIとWebアプリ等(AaaS: Analysis as a Service)にパッケージングしてクラウド上にアップロードし、社会実装の準備を進めた。