[14p-PB3-1~8] 3.15 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス

[14p-PB3-5] マイクロワットレベルの近赤外連続光による自己形成光導波路の作製

〇寺澤 英孝¹、杉原 興浩¹ (1.宇大工)

キーワード：シリコンフォトニクス、ポリマー光導波路、光インターコネクション

本発表では、近赤外連続波光による自己形成光導波路の作製について検討した。光硬化性樹脂に、近赤外領域に吸収を持つ色素を分散させ色素混合樹脂を作製した。波長1.07μmにおよび1.31 μmの連続波光源を用いて、自己形成光導波路の作製を行い、連続波光源の出力がマイクロワットレベルにおいても自己形成光導波路の作製に成功した。この技術はシリコンフォトニクスにおける光素子間の無調芯接続方法として有望である。