[14p-PB7-1~29] 12.3 機能材料・萌芽的デバイス

[14p-PB7-13] ジアリールエテンの金属蒸着選択性に基づく微細Mgパターンの解像度限界

〇(B)石田 祥子¹、辻岡 強¹ (1.大阪教大)

キーワード：フォトクロミズム、ジアリールエテン、蒸着選択性

光異性化に伴ってガラス転移点が大幅に変化するジアリールエテン(DAE)は、金属蒸着選択性を示す。これによる金属パターンの微細化の限界を調べるため、フォトマスク基板上に形成したDAEに異性化パターンを形成し、得られたMgパターンを観察した。着色・消色部分のLine&spaceピッチが2.6μmでは、消色部分にまでMg堆積が見られた。これはMg原子が着色部分から消色部分へ拡散して原子密度が向上し、核形成しやすくなったためである。