[14p-PB8-1~8] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[14p-PB8-1] 真空蒸着法によるシリコンクラスレート薄膜の作製

〇伊藤 駿一郎¹、飯田 民夫¹、大橋 史隆²、久米 徹二² (1.岐阜高専、2.岐阜大学)

キーワード：半導体新材料、クラスレート化合物、シリコン