[15a-A304-1~10] 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

[15a-A304-2] Decomposition of terephthalic acid by pulsed discharge plasma exposure (2) - Detailed analysis of by-products -

〇Kazuhiro Takahashi¹, Kohki Satoh¹ (1.Muroran I. T.)

Keywords:Terephthalic acid, OH radical, Plasma exposed water

テレフタル酸(TA)水溶液に水上パルス放電を照射したときの副生成物を液体クロマトグラフ質量分析により調査した。ヒドロキシテレフタル酸に加えて，ヒドロキシ安息香酸，ジヒドロキシ安息香酸，ジヒドロキシテレフタル酸およびトリヒドロキシテレフタル酸が生成されることがわかり，これらもOHラジカルと反応すると考えられ，TAを用いたOHラジカルの生成レートの正確な推定には，副生成物の定量も必要であることが示された。