2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[15a-A305-1~13] 13.3 絶縁膜技術

2020年3月15日(日) 09:00 〜 12:30 A305 (6-305)

渡邉 孝信(早大)、喜多 浩之(東大)

09:15 〜 09:30

[15a-A305-2] 高圧水蒸気中での陽極酸化法により成膜したシリコン酸化膜の電気特性

堅田 卓弥1、角田 将紀1、呉 研1、高橋 芳浩1 (1.日大理工)

キーワード:陽極酸化法、高圧水蒸気中、シリコン酸化膜