[15a-D311-1~12] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[15a-D311-5] 潮解性酸化物を利用したペロブスカイト酸化物に対する微細加工・転写プロセス

小暮 秀伍¹、橋本 歩²、吉本 智貴¹、徳田 規夫³、山田 悟²、〇川江 健¹ (1.金沢大理工、2.石川高専、3.金沢大ナノマリ研)

キーワード：潮解性酸化物、選択成長、転写プロセス

近年、多様なペロブスカイト酸化物に対し、格子整合性に優れる水溶性酸化物Sr₃Al₂O₆ （SAO）を利用した異種基板上へのペロブスカイト酸化物薄膜の転写技術に関する検討が報告されている。また、我々は潮解性酸化物であるアモルファスCaO（a-CaO）を犠牲層とする水リフトオフ（WLO）法により、Pb(Zr,Ti)O₃、SrRuO₃、b-Ga₂O₃などの多様な酸化物の選択エピ成長を実証してきた。
今回、SAOとa-CaOを複合した新しいWLO法を提案し、任意形状を有するペロブスカイト酸化物を異種基板上へと転写するプロセスを検証する。