[15a-PA5-1~25] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[15a-PA5-7] ゾル-ゲル成膜ZnO薄膜の低抵抗化のための成膜後プロセス

〇安部 功二¹、森本 康弘¹ (1.名工大)

キーワード：酸化亜鉛、ゾル-ゲル法、透明導電膜