[15a-PB2-1~22] 8 Plasma Electronics

[15a-PB2-1] Preparation of hydrogen embrittlement resistance Thin Films by Plasma process and their properties I

〇Hiroharu Kawasaki¹, Tamiko Ohshima¹, Yoshihito Yagyu¹, Takeshi Ihara¹, Masanori SHinohara¹, HIroshi Nishiguchi¹ (1.Nat'l Inst. Tech. Sasebo Col.)

Keywords:Plasma Process, Thin Film, Hydrogen Embrittlement

ステンレス鋼SUS316Lやアルミニウム合金A6061-T6などは耐水素侵入特性が良い等の理由で水素ぜい化が起こりにくいとされ、高圧水素タンク等の水素利用機器の金属材料候補材として挙げられているが，これらはコストが高い。本研究では、炭素鋼などの安価な材料で水素利用機器をつくり，表面のみに上述のアルミニウムなどでコーティングし、その効果を調べた。実験結果から、作製した薄膜によって水素がブロックされ、素材そのものには吸収されないことが示唆された。これを利用すれば、素材そのものの水素脆性の回避につながると考えている。