09:30 〜 11:30
▲ [15a-PB3-12] Activation of Boron Atoms implanted in Sillicon at a low temperature
キーワード：semiconductor, activation, low temperature
講演情報
一般セッション(ポスター講演)
13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術
[15a-PB3-1~12] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術
2020年3月15日(日) 09:30 〜 11:30 PB3 (第１体育館)