[15a-PB3-1~12] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[15a-PB3-3] 真空蒸着法によるSrSi₂の薄膜作製

〇(M2)瀧澤 周平¹、原 康祐¹、山中 淳二¹、有元 圭介¹ (1.山梨大)

キーワード：SrSi2、真空蒸着法、薄膜作製