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[15a-PB4-6] Catカウンタードーピングによるp-a-Siの形成
キーワード:Siヘテロ接合太陽電池、Cat-CVD
膜厚10 nm以下のCatドープa-Siの導電率測定のためにドープa-Siをi-a-Siで挟み込む構造での導電率測定を行った。i/n/i構造では、膜厚10 nmの試料においても10−4 S/cm台の導電率を確認した。同構造でのB Catドーピング時間依存性では、n-a-Si単膜構造と比較し高い導電率でp型への変化を確認した。膜厚が10 nm以下でも、フェルミレベルピニングによる低導電率化を抑制し、Catドープ層の正確な導電率を測定することができた。