The 67th JSAP Spring Meeting 2020

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

[15p-A304-1~7] 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

Sun. Mar 15, 2020 1:15 PM - 3:00 PM A304 (6-304)

Nakagawa Yusuke(首都大)

1:15 PM - 1:30 PM

[15p-A304-1] Distribution of OH radical density in direct-current atmospheric-pressure plasma using crossed gas flow

Hiroki Ohwada1, Naoki Shirai1, Koichi Sasaki1 (1.Hokkaido Univ.)

Keywords:OH radical, Atmospheric-pressure plasma, Direct-current plasma

交差ガス流を用いた放電方式で生成したプラズマ源の下流部に水を設置して発光領域を接触させない照射を行うと、過酸化水素等の濃度が高いプラズマ処理水が生成されることがわかっている。プラズマ由来のラジカルは水処理や医療分野での応用が期待されているが、その生成や輸送のメカニズムは未解明である。
本研究ではLIF計測によって得られた画像データを用いて、交差ガスプラズマの温度、クエンチング周波数、OH密度の空間分布を得た。