2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.5 プラズマ現象・新応用・融合分野

[15p-A304-1~7] 8.5 プラズマ現象・新応用・融合分野

2020年3月15日(日) 13:15 〜 15:00 A304 (6-304)

中川 雄介(首都大)

13:15 〜 13:30

[15p-A304-1] 交差ガス流を用いた直流駆動大気圧プラズマにおけるOHラジカルの空間密度分布

大和田 裕樹1、白井 直機1、佐々木 浩一1 (1.北大工)

キーワード:OHラジカル、大気圧プラズマ、直流プラズマ

交差ガス流を用いた放電方式で生成したプラズマ源の下流部に水を設置して発光領域を接触させない照射を行うと、過酸化水素等の濃度が高いプラズマ処理水が生成されることがわかっている。プラズマ由来のラジカルは水処理や医療分野での応用が期待されているが、その生成や輸送のメカニズムは未解明である。
本研究ではLIF計測によって得られた画像データを用いて、交差ガスプラズマの温度、クエンチング周波数、OH密度の空間分布を得た。