2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[15p-D215-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2020年3月15日(日) 13:45 〜 16:45 D215 (11-215)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)、川田 博昭(阪府大)

14:00 〜 14:15

[15p-D215-2] 3 nmレーザープラズマ軟X線によるリソグラフィー

天野 壯1 (1.兵県大高度研)

キーワード:軟X線リソグラフィー、レーザープラズマ

開発した固体Arレーザープラズマ光源からの波長3.37nmの軟X線を、NiCr/V2O5多層膜がコートされた楕円ミラーでPMMA上に集光して、Niメッシュ(2000/inch)のコンタクトマスクによりリソグラフィー加工を行った。サンプル上での軟X線強度が約0.01 mJ/cm2の時、1000 shotsの露光でマスクに対応した微細構造が形成されてその深さは130 nmであった。