[15p-D215-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[15p-D215-6] 逐次浸透合成による光ナノインプリント成形パターンの倒れ欠陥と架橋剤添加による欠陥抑制

〇宮島 千晶¹、伊東 駿也¹、中村 貴宏¹、中川 勝¹ (1.東北大多元研)

キーワード：光ナノインプリント、逐次浸透合成 (SIS)、架橋剤

逐次浸透合成 (SIS) は、反応性無機前駆体と酸化剤の交互暴露を繰り返し、有機－無機ハイブリット構造を形成する手法である。光ナノインプリント用樹脂薄膜にAlO_xのSISを施すことによるエッチング耐性の向上が示されている。本研究では、trans-1,3,3,3-tetrafluoropropene (TFP) 利用光ナノインプリントによる成形パターンのSISの無機前駆体暴露に対する形状安定性の向上を目指した。TFP吸収量が僅少な架橋剤を添加することで、SISによる倒れ欠陥の低減を示した。