[15p-D215-1~11] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

△ [15p-D215-7] Surface flattening of COP substrate by repeat thermal nanoimprint for growth of conductive oxide thin films

〇Tomoaki Oga¹, Atsushi Oshima¹, Naho Kaneko¹, Satoru Kaneko^2,1, Akifumi Matsuda¹, Mamoru Yoshimoto¹ (1.Tokyo Tech, 2.KISTEC)

Keywords:nanoimprint, polymer, ZnO

シクロオレフィンポリマーは、酸化物薄膜と組み合わせたフレキシブルデバイスへの応用が研究されている。デバイス薄膜の物性制御には結晶配向成長が重要であり、そのためにはポリマー表面の平坦性向上やパターンの微細化が必要である。超平坦ポリマー基板上の高結晶配向膜の合成を目的として、ポリマー基板表面へのリピート熱ナノインプリントによる原子レベルパターン形成と平坦性向上およびZnO薄膜成長への効果を検討した。