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一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[15p-D215-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2020年3月15日(日) 13:45 〜 16:45 D215 (11-215)

山本治朗(日立)、谷口淳(東理大)、川田博昭(阪府大)

16:00 〜 16:15

[15p-D215-9] 印刷法を用いたフレキシブルインターポーザーの作製

〇古田敦大¹、本庄一希¹、谷口淳¹ (1.東京理科大学基礎工学部電子応用工学科)

キーワード：ナノインプリント