2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[15p-D311-1~8] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2020年3月15日(日) 13:45 〜 15:45 D311 (11-311)

清水 亮太(東工大)

14:30 〜 14:45

[15p-D311-4] Chemical Bath Depositionを用いた酸化バナジウムの成膜及び結晶性の評価

金 胄男1,2、中田 勇利1、杉山 睦1,2 (1.東理大理工、2.東理大/総研)

キーワード:バナジウム酸化膜、化学溶液堆積、サーモクロミック

酸化バナジウム(VO2)は温度による相転移により、抵抗率や赤外線の透過率が温度と共に変化する。特に常温では赤外光を透過し、68 ℃以上では赤外光を遮蔽する[1-2]。この特性を活かすため、例えばVO2を窓やビニールハウスと組み合わせることで、自律的に熱源である赤外光を制御し、室内の温度を一定に保つ機能の付加が期待できる。VO2の成膜に関して様々な方法が報告されているが、より簡単で大面積に成膜可能なChemical Bath Deposition(CBD)による報告はない。本研究ではCBDによるVO2薄膜の成膜条件を検討し、その結晶性の変化及び温度の変化による光学特性の変化を検討した。