[15p-D311-1~8] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[15p-D311-7] 硬X線光電子分光を用いたLaNiO₃薄膜の電子構造の基板応力依存性

〇(P)山神 光平¹、池田 啓祐¹、ザン ユジュン^1,2、保井 晃³、高木 康多³、片瀬 貴義⁴、神谷 利夫⁴、和達 大樹^1,2 (1.東大物性研、2.兵県大理、3.高輝度光科学研究センター、4.東工大フロ材研)

キーワード：ニッケル酸化物、薄膜、光電子分光

強相関ペロブスカイトニッケル酸化物薄膜は基板に由来する応力によって、フェルミ準位近傍の電子構造が変化する。その結果、電子物性の転移温度が変化するため、実験的に薄膜の電子構造を理解することは酸化物エレクトロニクスナノデバイスを目指す上で基本的かつ重要である。そこで、我々はLaNiO₃の基板応力による電子構造の変化を硬X線光電子分光によって観測し、基板応力によってフェルミ準位近傍の電子構造が大きく変化する様子を捉えたため、報告する。