14:15 〜 14:30 [10p-N203-4] 3次元積層型CIS向け多元素分子イオン注入エピウェーハの特性(I)CH2P注入エピウェーハの注入レンジにおける水素脱離挙動の理論解析 〇奥山 亮輔1、門野 武1、柾田 亜由美1、鈴木 陽洋1、小林 弘治1、重松 理史1、廣瀬 諒1、古賀 祥泰1、栗田 一成1 (1.SUMCO)