13:45 〜 14:00 [10p-N203-2] Si/SiO2界面における酸素の挙動に関する第一原理解析 〇永倉 大樹1,2、末岡 浩治3、神山 栄治3 (1.ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング、2.岡山県大院情報系工、3.岡山県大情報工)
14:00 〜 14:15 [10p-N203-3] Si/SiO2界面におけるCu,Niの挙動に関する第一原理解析 〇永倉 大樹1,2、末岡 浩治3、神山 栄治3 (1.ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング、2.岡山県大院情報系工、3.岡山県大情報工)