一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2021年9月10日(金) 09:00 〜 12:00 N321 (口頭)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇井上 飛鳥1、藤原 裕士1、渡辺 啓1 (1.NTT先デ研)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇下間 靖彦1、栗田 寅太郎1、矢野下 瑠星1、木内 康平1、藤原 正規2、水落 憲和2、植本 光治3、矢花 一浩4、清水 雅弘1、三浦 清貴1 (1.京大工、2.京大化研、3.神戸大工、4.筑波大)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇小幡 孝太郎1、川端 祥太1,2、カバジェロ ルカス フランセスク1、花田 修賢3、宮地 悟代2、杉岡 幸次1 (1.理研 光量子、2.東京農工大、3.弘前大理工)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇(D)場本 圭一1、櫻井 治之1、谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇欠端 雅之1、屋代 英彦1 (1.産総研電子光)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇栗田 寅太郎1、下間 靖彦1、矢野下 瑠星1、木内 康平1、藤原 正規2、藤江 昌弘2、水落 憲和2、清水 雅弘1、三浦 清貴1 (1.京大院工、2.京大化研)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇山崎 祐1、影林 由郎1、藤本 靖2 (1.ウシオ電機（株）、2.千葉工大)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇(B)大森 元貴1、大石 知司2、溝尻 瑞枝1 (1.長岡技科大、2.芝浦工大)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇(M1)石田 典也1、張 弘昊1、長谷川 智士1、早崎 芳夫1 (1.宇都宮大)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇中山 篤志1,2、熊本 康昭1、田口 敦清3、藤田 克昌1,2 (1.阪大院工、2.産総研・阪大先端フォトバイオ、3.北大電子研)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇(M2)住谷 大志1、谷 峻太郎1、櫻井 治之1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
スケジュール
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