一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.13 半導体光デバイス
13:45 〜 14:00
〇金子 桂1、橋本 玲1、角野 努1、斎藤 真司1、谷村 景貴2、高木 茂行2、迫田 和彰3 (1.東芝 CMC、2.東京工科大、3.物質・材料研究機構)
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14:00 〜 14:15
〇橋本 玲1、角野 努1、金子 桂1、斎藤 真司1、姚 遠昭2、池田 直樹2、間野 高明2、黒田 隆2、迫田 和彰2 (1.東芝生産技術センター、2.物質・材料研究機構)
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14:15 〜 14:30
〇角野 努1、橋本 玲1、金子 桂1、斎藤 真司1、姚 遠昭2、迫田 和彰2 (1.東芝生産技術センター、2.物質・材料研究機構)
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14:30 〜 14:45
〇斎藤 真司1、金子 桂1、橋本 玲1、角野 努1、谷村 景貴2、高木 茂行2、池田 直樹3、杉本 喜正3、間野 高明3、黒田 隆3、迫田 和彰3 (1.東芝生産技術センター、2.東京工科大、3.物材研)
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14:45 〜 15:00
〇松本 敦1、赤羽 浩一1、金子 瑠那2、勝原 龍海2、矢吹 諒太2、松島 裕一2、宇高 勝之2 (1.情通機構、2.早大理工)
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15:00 〜 15:15
〇(M2)澁川 航大1、韓 旭1、対馬 幸樹1、石崎 隆浩1、白井 琢人1、佐藤 元就1、伊藤 慎吾1、阿形 幸二1、小谷 桃子1、青木 彩絵1、矢田 涼介1、下村 和彦1 (1.上智大理工)
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15:15 〜 15:30
〇岩切 優人1 (1.宮崎大学)
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15:30 〜 15:45
〇高橋 直樹1、方 偉成1、大礒 義孝1、雨宮 智宏1,2、西山 伸彦1,2 (1.東工大工、2.科技創研)
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16:00 〜 16:15
〇(D)渡辺 裕1、馬場 将亮1、牧田 紀久夫2、太野垣 健2、菅谷 武芳2、山田 昇1 (1.長岡技科大、2.産総研)
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16:15 〜 16:30
〇粟井 啓伍1、井筒 由紀1、梁 剣波1、西村 悠陽1、金 大貴1、沈 用球2、重川 直輝1 (1.大阪市大工、2.大阪府大工)
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16:30 〜 16:45
〇荒井 昌和1、中川 翔太1、前田 幸治1 (1.宮崎大工)
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16:45 〜 17:00
〇櫛山 爽1、西岡 賢祐1、荒井 昌和1 (1.宮崎大工)
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17:00 〜 17:15
〇岩渕 由樹1、示野 義和1、丸山 武男1 (1.金沢大理工)
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17:15 〜 17:30
〇岡本 研正1、中野 逸夫2、松下 文夫1、細川 正美3 (1.香川大、2.岡山大、3.NPO光半導体応用技研)
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17:30 〜 17:45
〇駒澤 雄飛1、黒岡 和起1、割々谷 凌太1、内田 史朗1 (1.千葉工大)
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17:45 〜 18:00
〇松岡 希海1、須藤 智也1、内田 史朗1 (1.千葉工大)
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