一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
10:00 〜 10:15
〇(M1)深澤 啓介1、山本 純也1、周 英2、榊原 陽一2、齋藤 毅2、西澤 典彦1 (1.名大院工、2.産総研)
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10:15 〜 10:30
〇貝原 祥典1、戸田 裕之1、鈴木 将之1 (1.同志社大理工)
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10:30 〜 10:45
〇(M2)青柳 海1、増田 泰造2,3、Stephan Dottermusch4、Ian A Howard4、Bryce S Richards4、遠藤 雅守1 (1.東海大理、2.トヨタ自動車、3.電通大量セ、4.カールスルーエ工大)
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10:45 〜 11:00
〇遠藤 駿1、竹内 裕一1、栗原 大周1、齋藤 瞭太1、武者 満1 (1.電通大レーザー研)
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11:00 〜 11:15
〇大西 志晶1、白川 晃1 (1.電通大レーザー研)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇(M2)杉本 洸太1、白川 晃1 (1.電通大レーザー研)
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