一般セッション(口頭講演)
[11p-N205-1~12] CS.5 3.11 フォトニック構造・現象、3.12 ナノ領域光科学･近接場光学のコードシェアセッション
2021年9月11日(土) 13:30 〜 16:45 N205 (口頭)
岩長 祐伸(物材機構)、デ・ゾイサ メーナカ(京大)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇中山 和之1、 笠原 健司1、 稲田 聡明2、 冨田 知志3 (1.福岡大学理、2.東大素セ、3.東北大高教機構)
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13:45 〜 14:00
〇石井 智1,2,3、 東野 真4、 呉屋 伸也4、 シュコンディン エフゲニ5、 田中 勝久4、 長尾 忠昭1,6、 高山 修5、 村井 俊介4 (1.物材機構、2.筑波大、3.JSTさきがけ、4.京大、5.DTU、6.北大)
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14:00 〜 14:15
〇石野 航哉1、 井上 卓也1、 鈴木 泰樹1、 宋 奉植1,2、 浅野 卓1、 野田 進1 (1.京大院工、2.成均館大)
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14:15 〜 14:30
〇鈴木 泰樹1、 井上 卓也1、 宋 奉植1,2、 浅野 卓1、 野田 進1 (1.京大院工、2.成均館大)
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14:30 〜 14:45
〇伊藤 有輝1、 當麻 真奈1、 梶川 浩太郎1 (1.東工大工)
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14:45 〜 15:00
〇Yahui Wang1、 Tomohiro Amemiya1,2、 Hibiki Kagami1、 Sho Okada1、 Nobuhiko Nishiyama1,2、 Xiao Hu3 (1.Tokyo Tech、2.IIR、3.WPI-MANA, NIMS)
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15:15 〜 15:30
〇(D)杉本 陽祐1、 當麻 真奈1、 梶川 浩太郎1 (1.東工大工)
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15:30 〜 15:45
〇(M1)平野 和弥1 (1.静大院工)
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15:45 〜 16:00
〇(D)Siyuan Gao1,2、 Yasutomo Ota3、 Feng Tian1、 Tianji Liu1、 Satoshi Iwamoto1,2 (1.RCAST, Univ. Tokyo、2.IIS, Univ. Tokyo、3.Keio Univ.)
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16:00 〜 16:15
〇岩長 祐伸1 (1.物材機構)
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16:15 〜 16:30
〇高島 祐介1,2、 原口 雅宣1,2、 直井 美貴1,2 (1.徳島大理工、2.徳島大pLED)
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16:30 〜 16:45
〇小野 真証1,2、 新家 昭彦1,2、 納富 雅也1,2,3 (1.NTTナノフォトニクスセンタ、2.NTT物性科学基礎研、3.東工大理)
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