一般セッション(口頭講演) | 10 スピントロニクス・マグネティクス | 10.4 半導体スピントロニクス・超伝導・強相関 [12p-S302-1~17] 10.4 半導体スピントロニクス・超伝導・強相関 2021年9月12日(日) 13:30 〜 18:15 S302 (口頭) 大矢 忍(東大)、浜屋 宏平(阪大)、新屋 ひかり(東北大)
一般セッション(口頭講演) | 10 スピントロニクス・マグネティクス | 10.5 磁場応用 [12a-N324-1~9] 10.5 磁場応用 2021年9月12日(日) 09:00 〜 11:30 N324 (口頭) 三井 好古(鹿児島大)、武内 裕香(室蘭工大)
一般セッション(口頭講演) | 11 超伝導 | 11.1 基礎物性 [12a-N401-1~7] 11.1 基礎物性 2021年9月12日(日) 10:00 〜 11:45 N401 (口頭) 長尾 雅則(山梨大)、藤岡 正弥(北大)
一般セッション(口頭講演) | 11 超伝導 | 11.1 基礎物性 [12p-N401-1~8] 11.1 基礎物性 2021年9月12日(日) 13:15 〜 15:30 N401 (口頭) 長尾 雅則(山梨大)、元木 貴則(青学大)
一般セッション(口頭講演) | 11 超伝導 | 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長 [12a-N402-1~11] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長 2021年9月12日(日) 09:00 〜 12:00 N402 (口頭) 尾崎 壽紀(関西学院大)、寺西 亮(九大)
一般セッション(口頭講演) | 11 超伝導 | 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長 [12p-N402-1~10] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長 2021年9月12日(日) 13:30 〜 16:15 N402 (口頭) 舩木 修平(島根大)、飯田 和昌(名大)
一般セッション(口頭講演) | 11 超伝導 | 11.4 アナログ応用および関連技術 [12a-N403-1~7] 11.4 アナログ応用および関連技術 2021年9月12日(日) 09:00 〜 11:00 N403 (口頭) 川上 彰(情通機構)、柴田 浩行(北見工大)
一般セッション(口頭講演) | 11 超伝導 | 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用 [12p-N403-1~14] 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用 2021年9月12日(日) 13:00 〜 16:45 N403 (口頭) 山梨 裕希(横国大)、赤池 宏之(大同大)
一般セッション(口頭講演) | 12 有機分子・バイオエレクトロニクス | 12.1 作製・構造制御 [12p-N307-1~11] 12.1 作製・構造制御 2021年9月12日(日) 13:30 〜 16:30 N307 (口頭) 山本 俊介(東北大)、丸山 伸伍(東北大)
一般セッション(口頭講演) | 12 有機分子・バイオエレクトロニクス | 12.2 評価・基礎物性 [12a-N302-1~10] 12.2 評価・基礎物性 2021年9月12日(日) 09:00 〜 11:45 N302 (口頭) 中山 泰生(東理大)、西野 智昭(東工大)