一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.11 フォトニック構造・現象 [13p-N321-1~15] 3.11 フォトニック構造・現象 2021年9月13日(月) 13:30 〜 17:45 N321 (口頭) 石崎 賢司(京大)、北村 恭子(京都工繊大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学 [13a-N324-1~9] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学 2021年9月13日(月) 09:00 〜 11:30 N324 (口頭) 笹木 敬司(北大)、八井 崇(豊橋技科大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学 [13p-N324-1~13] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学 2021年9月13日(月) 13:00 〜 16:30 N324 (口頭) 酒井 優(山梨大)、杉本 泰(神戸大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.14 光制御デバイス・光ファイバー [13a-N103-1~9] 3.14 光制御デバイス・光ファイバー 2021年9月13日(月) 09:00 〜 11:30 N103 (口頭) 渡邉 俊夫(鹿児島大)
一般セッション(口頭講演) | 3 光・フォトニクス | 3.14 光制御デバイス・光ファイバー [13p-N103-1~12] 3.14 光制御デバイス・光ファイバー 2021年9月13日(月) 13:30 〜 16:45 N103 (口頭) 田中 洋介(農工大)、渡辺 啓(NTT)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.2 カーボン系薄膜 [13a-S301-1~7] 6.2 カーボン系薄膜 2021年9月13日(月) 09:30 〜 11:15 S301 (口頭) 大谷 亮太(旭ダイヤ)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.2 カーボン系薄膜 [13p-S301-1~15] 6.2 カーボン系薄膜 2021年9月13日(月) 13:00 〜 17:15 S301 (口頭) 神田 一浩(兵庫県立大)、針谷 達(豊橋技科大)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.3 酸化物エレクトロニクス [13a-S203-1~9] 6.3 酸化物エレクトロニクス 2021年9月13日(月) 09:00 〜 11:30 S203 (口頭) 若林 勇希(NTT)、上田 浩平(阪大)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.3 酸化物エレクトロニクス [13p-S203-1~15] 6.3 酸化物エレクトロニクス 2021年9月13日(月) 13:00 〜 17:00 S203 (口頭) 藤田 貴啓(東大)、相馬 拓人(東工大)
一般セッション(口頭講演) | 6 薄膜・表面 | 6.4 薄膜新材料 [13a-N203-1~7] 6.4 薄膜新材料 2021年9月13日(月) 09:30 〜 11:15 N203 (口頭) 石橋 隆幸(長岡技科大)