[10a-N321-1~11] 3.7 レーザープロセシング

[10a-N321-8] フェムト秒レーザパルス照射によるグリオキシル酸Cu錯体からのCu還元析出の動的観察

〇(B)大森 元貴¹、大石 知司²、溝尻 瑞枝¹ (1.長岡技科大、2.芝浦工大)

キーワード：フェムト秒レーザ直接描画、グリオキシル酸Cu錯体、動的観察

グリオキシル酸Cu錯体からのフェムト秒レーザパルス誘起光熱還元において，Cu析出量の制御を目指し，異なる熱伝導率基板上へのCu析出現象の動的観察によって，基板による析出領域への影響を評価した．低熱伝導率のSiO₂ガラス基板上では高熱伝導率のSiやAl₂O₃基板よりもCu析出領域が大きくなった．基板の熱伝導率はCu析出に支配的であることが明らかにした．