2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[10a-S203-1~9] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年9月10日(金) 09:00 〜 11:30 S203 (口頭)

塩貝 純一(東北大)

09:00 〜 09:15

[10a-S203-1] (La1-xSrx)VO3 / p-Si(100)接合の電気容量ー電圧特性

村主 圭佑1、和達 大樹2、新船 幸二1、吉田 晴彦1、堀田 育志1 (1.兵県大工、2.兵県大理)

キーワード:遷移金属酸化物、シリコン、強相関電子系

遷移金属酸化物の多彩な物性をシリコンエレクトロニクスに取り入れる研究が注目されており、本研究グループではMott絶縁体である(La1-xSrx)VO3[LSVO(x)]とSi基板の直接接合試料を作製し、界面電子状態や接合構造の電気特性を調査している。今回は、LSVO(x)/p-Si(100)接合試料界面の容量ー電圧(C-V)特性を調査した結果を報告する。