[10p-N103-1~16] 3.13 Semiconductor optical devices

[10p-N103-2] Development of photonic crystal fabrication technology for mid-infrared surface emitting quantum cascade laser

〇Rei Hashimoto¹, Tsutomu Kakuno¹, Kei Kaneko¹, Shinji Saito¹, Yuanzhao Yao², Naoki Ikeda², Takaaki Mano², Takashi Kuroda², Kazuaki Sakoda² (1.Toshiba CMC, 2.NIMS)

Keywords:Quantum Cascade Laser, Photonic Crystal, mid-infrared semiconductor laser

量子カスケードレーザ(QCL)は赤外域の小型光源として期待されており、我々はフォトニック結晶（PC）を利用する面発光型QCLの開発を進めている。素子作製工程を経る中でPCの設計値と出来上がり値に乖離が生じる。寸法差を生じさせる工程として有機金属気相成長法（MOCVD）による再成長埋め込み工程に着目し、この工程を分子線エピタキシー法（MBE）に変更することでの寸法差への影響を評価した。