2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[10p-N104-1~18] 16.3 シリコン系太陽電池

2021年9月10日(金) 13:00 〜 18:15 N104 (口頭)

齋 均(産総研)、増田 淳(新潟大)

18:00 〜 18:15

[10p-N104-18] Cat-CVDでSiNxを堆積した結晶Siセル表面でのファイヤースルーによるコンタクト形成

板坂 年希1、立花 福久2、Thi Cam Huynh Tu1、大平 圭介1 (1.北陸先端大、2.産総研)

キーワード:結晶シリコン太陽電池、Cat-CVD

Cat-CVD法で屈折率を変化させて堆積したSiNxに対してAg電極印刷とファイヤースルーを行い、接触抵抗の変化を調査した。TLM測定の結果、SiNxの屈折率によらず、0.01–0.02 Ωcm2の範囲の接触抵抗が得られ、膜密度の高いCat-CVD SiNx膜でもAg電極のファイヤースルーが可能であることを確認した。接触抵抗が要求値より若干高い原因は、フィンガーが途切れている箇所が存在するためと考えられる。