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[10p-N104-18] Cat-CVDでSiNxを堆積した結晶Siセル表面でのファイヤースルーによるコンタクト形成
キーワード:結晶シリコン太陽電池、Cat-CVD
Cat-CVD法で屈折率を変化させて堆積したSiNxに対してAg電極印刷とファイヤースルーを行い、接触抵抗の変化を調査した。TLM測定の結果、SiNxの屈折率によらず、0.01–0.02 Ωcm2の範囲の接触抵抗が得られ、膜密度の高いCat-CVD SiNx膜でもAg電極のファイヤースルーが可能であることを確認した。接触抵抗が要求値より若干高い原因は、フィンガーが途切れている箇所が存在するためと考えられる。