2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.5 表面物理・真空

[10p-N204-1~17] 6.5 表面物理・真空

2021年9月10日(金) 13:30 〜 18:30 N204 (口頭)

永村 直佳(物材機構)、光原 圭(立命館大)、滝沢 優(立命館大)

18:15 〜 18:30

[10p-N204-17] 光励起によるTiO2表面の水素ガス生成率‐アナターゼとルチルの比較

加藤 弘一1、福谷 克之1 (1.東大生産研)

キーワード:水素、酸化チタン、光励起

水中のTiO2表面では、光触媒により水素ガスを発生することが知られている。同様のTiO2でもアナターゼの方がルチルよりも水素ガス発生率が高い。第一原理計算により、TiO2表面で水素ガスを発生する際の断熱ポテンシャルを解析してきた。これを元にガス生成率を求めたところ、アナターゼでは即座に水素ガスが発生し、ルチル上では非常に遅いことが分かってきた。