[10p-N204-1~17] 6.5 表面物理・真空

[10p-N204-4] 反射高速電子回折における表面プラズモン励起過程と異常増強

〇中原 仁¹、堀尾 吉已²、高桑 雄二³ (1.名大院工、2.大同大工、3.東北大多元研)

キーワード：反射高速電子回折、表面プラズモン

表面プラズモン励起過程をoff-Bragg条件も含めて系統的に解析するため、入射電子線の視射角を精密に制御してエネルギー損失スペクトルを測定し、ポアソン分布を仮定したスペクトル分解によって表面プラズモンの平均励起回数を求めた。この結果、従来報告されていない平均励起回数の異常増強が特定の視射角で生じることを見出した。