2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.2 グラフェン

[10p-N306-1~18] 17.2 グラフェン

2021年9月10日(金) 13:30 〜 18:15 N306 (口頭)

大野 恭秀(徳島大)、森山 悟士(東京電機大)

16:45 〜 17:00

[10p-N306-13] ニッケル基材へCVDグラフェン成膜時の厚さ依存性

〇(M1)平栃 健太1,2、菅 洋志1,2、清水 哲夫2、久保 利隆2 (1.千葉工大、2.産総研)

キーワード:グラフェン、化学気相成長法、防蝕

機械材料などに用いられるNiに化学気相成長(CVD)法でグラフェンを成膜することで,グラフェン物性由来の高い防蝕性能等の付加機能を与えることが期待できる.異なる厚さのNi基板にグラフェンを成膜し,ラマン分光測定による2Dピークのマッピングでグラフェン被覆率を調査した.成膜条件が同じ場合,Ni基板の厚さが薄いほどグラフェンの被覆率が高くなる傾向が見られた.成膜基板の厚さ依存性について報告する.