2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.2 グラフェン

[10p-N306-1~18] 17.2 グラフェン

2021年9月10日(金) 13:30 〜 18:15 N306 (口頭)

大野 恭秀(徳島大)、森山 悟士(東京電機大)

17:45 〜 18:00

[10p-N306-17] 繰り返し転写による多層グラフェンの作製

川田 和則1、川木 俊輔1、中村 孝子1、古賀 義紀1、長谷川 雅考1 (1.エアメンブレン)

キーワード:グラフェン、転写、乱層構造

単層グラフェンを酸化シリコン基板上に繰り返し転写することで多層グラフェンを作製し、グラフェンのドーピング状態を観察した。1層目のグラフェンは基板の影響を受けてドーピングされるが、2層目以降への影響は小さかった。グラフェンの転写を繰り返すことで、乱層積層構造グラファイトに近づくことが期待される。