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[10p-N307-3] 波長6 nm帯の高輝度光源の可能性研究
キーワード：極端紫外光源、レーザー生成プラズマ
半導体リソグラフィーは非常に多くの分野に拡がりを産業分野である．この中で，光源には量産用高出力光源と検査用高輝度光源の2種類があり，それぞれそのコンセプトは異なっている．後者は多層膜光学素子の欠陥検出などに用いられるものである．半導体ロードマップのひとつには2028年に1.5 nmノードになると記載されている．このまま波長13.5 nmの高輝度光源を検査用EUV顕微鏡に適用できるとよいが，さらなる高解像度が必要になる可能性もある．そこで，波長が6 nm帯の検査用光源について検討している．