[10p-S203-1~21] 6.3 Oxide electronics

[10p-S203-19] Fabrication of aluminum oxide thin films by dip-dry deposition

〇Baixian Cheng¹, Ichimura Masaya¹ (1.Nagoya Inst. of Tech.)

Keywords:aluminum oxide, dip-dry deposition

本研究では、溶液に基板を浸漬して少量の溶液をつけてから加熱することで、安易かつ大面積の堆積が可能なディップ蒸発堆積法によるAlO_x堆積を行い、その後、厚さと透過率測定をはじめとした薄膜の評価を行った。その結果、AlO_x薄膜は均一な厚さを持つ透明な膜である事がわかった。