2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[10p-S203-1~21] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年9月10日(金) 13:00 〜 18:30 S203 (口頭)

松田 晃史(東工大)、新宮原 正三(関西大)

13:45 〜 14:00

[10p-S203-4] ペロブスカイト型酸化物抵抗変化メモリの光応答特性評価及び人工シナプスデバイス応用の検討

山崎 悠太郎1、橋本 悠太1、青木 裕雅1、木下 健太郎1 (1.東理大理)

キーワード:抵抗変化メモリ、NbSrTiO(NbSTO)、光エレクトロニクス