[10p-S301-3~12] 8.1 プラズマ生成・診断

[10p-S301-9] 円筒対向ターゲットスパッタのための高周波リング状ホロー磁化プラズマの生成

〇井本 将真¹、大津 康徳¹ (1.佐賀大理工)

キーワード：円筒対向ターゲットスパッタリング

可視光を用いた半導体デバイスが多数必要となっており、光を透過させるために、電極には透明導電（TCO）膜が広く利用されている。TCO膜の合成は、マグネトロンスパッタが広く用いられているが、低い基板温度では、抵抗率の分布が不均一になるという課題がある。
本研究では、抵抗率の分布を均一化できる対向ターゲットスパッタに着目し、円筒対向ターゲットスパッタのためのリング状ホロー磁化プラズマを生成することを目的とした。