2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

10 スピントロニクス・マグネティクス » 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

[10p-S302-1~18] 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

2021年9月10日(金) 13:30 〜 18:30 S302 (口頭)

三輪 真嗣(東大)、森山 貴広(京大)、眞砂 卓史(福岡大)

15:15 〜 15:30

[10p-S302-7] トポロジカルチャージの揺らぎが反強磁性体中のスカーミオンの速度に与える影響

成瀬 貴彦1、森島 一輝1、近藤 憲治1 (1.北大電子研)

キーワード:スカーミオン、反強磁性体、スピントロニクス

反強磁性体中のスカーミオンの速度を数値計算し、その速度が電流密度を上げるにつれ、上限値に漸近することを発見した。これはThiele方程式から得られる解析解と矛盾している。その原因をトポロジカル電荷Qの値がゼロから揺らいでいるためだと考え、Thiele方程式をQがゼロでない形で解いて得られた速度の解析解を用いてQを見積もった。その結果Qがゼロから揺らいでおり、その揺らぎが速度の飽和に関係していることが分かった。